半導體器件生產中硅片須經嚴格清洗。微量污染也會導致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染雜質，包括有機物和無機物。這些雜質有的以原子狀態或離子狀態，有的以薄膜形式或顆粒形式存在于硅片表面。
新日光伏科技公司始終堅持以合理的價格，誠信的服務與各地客戶合作，對照市場的實價，我們給予合理的評估。公司擁有檢測儀器和提煉加工設備，無中間環節回收價格高。
多晶硅和多晶硅的區別是，當熔融的單質硅凝固時,硅原子以金剛石晶格排列成許多晶核，如果這些晶核長成晶面取向相同的晶粒，則形成單晶硅。如果這些晶核長成晶面取向不同的晶粒，則形成多晶硅。
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不耐酸耐腐：由于硅片切割設備在酸性環境下會生銹腐蝕，質量差的切割液會加重腐蝕程度，所以如何防腐防銹是判斷硅片切割液優劣的關鍵所在。
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